فرآیندهای انحلال و ترسیب در پالایش الکترولیتی مس، بطور گسترد های از ضریب نفوذ یون های مس تأثیر میپذیرند. در این تحقیق از یکی از تکنیک های الکتروشیمیایی دینامیکی به نام LSV) Linear Sweep Voltametry) به منظور اندازه گیری ضریب نفوذ (Diffusion Coefficient) یون ++Cu در لایه نرنست مجاور سطح کاتد استفاده شده است. سپس تاثیر تغییرات غلظت یون مس و غلظت گلو (Glue) بر روی ضریب نفوذ ++Cu در الکترولیت صنعتی شبیه سازی شده مشابه واحد پالایش الکترولیتی مس مجتمع مس سرچشمه، مورد ارزیابی و تحقیق قرار گرفته است.
تغییرات غلظت مس و گلو در این تحقیق به ترتیب ٦٠-٠گرم بر لیتر و 100-0 میلیگرم بر لیتر(ppm) در نظر گرفته شده است. افزایش غلظت مس در الکترولیت سولفات مس اسیدی به مقدار اندکی ضریب نفوذ مس را افزایش داده و افزایش غلظت گلو مقدار اندکی ضریب نفوذ مس را کاهش می دهد.
کلمات کلیدی: ضریب نفوذ-مس-گلو-کاتد
